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二氧化硅抛光液的简介及应用领域


  二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。二氧化硅抛光液广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
  根据不同的抛光要求可分为不同粒度(10~150nm)的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
  二氧化硅抛光液应用领域
  1、光通讯领域,配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品,能达到超精细抛光效果,抛光后连接器端面没有划伤和缺陷,3D指标和反射衰减指标达到国际标准。
  2、硬盘基片的抛光,SiO2磨料呈球形,具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
  3、硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛,具有抛光速率高,抛光后易清洗,表面粗糙度低,能够得到总厚偏差(TTV)极小的质量表面。
  4、其他领域的应用,如不锈钢、光学玻璃等领域,抛光后能达到良好的抛光效果
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